工作原理：

       SEM是利用细聚焦的纳米级电子束轰击样片表面，通过电子与样品相互作用产生二次电子、背散射电子等特征信号激发出样品表面的各种物理信号，这些信号经过接收、视频放大处理和显示成像，得到相应的微观形貌或成分分析。

主要功能特色：

       二次电子图像，获得高分辨率微区形貌分析及成像

       能谱(EDS)，点扫/线扫/Mapping

       背散射电子像（BSE）,可反映样品的成分衬度

       阴极荧光图像（CL）

1. 电子光学系统：

1.1 二次电子分辨率:≤1.0nm@15kV，≤16nm@1kV(非样品台减速模式下)；

1.2 加速电压：0.02 ~ 30 kV，步进10 V，连续可调；探针电流可调，无需模式更换；

1.3 放大倍数：10 ~ 1,000,000x，根据加速电压和工作距离的改变，改变放大倍数时自动校准；

1.4 电子束流：最大束流不小于20 nA；

1.5 电子枪：肖特基场发射电子枪，电子束束流稳定性优于0.2%/h；

1.6 可变光阑孔:不低于6孔，光阑孔自动切换，无需移动光阑。

2. 样品台：

2.1 配置五轴优中心马达驱动样品台,移动XY方向最大移动范围:X≥125mm,Y≥125mm,R=360” (旋转)；

2.2 样品台Z方向最大移动范围:Z≥50mm，双向倾斜，倾斜范围不小于-10°至90°。

3. 探测器：

3.1 样品室二次电子探测器；

3.2 镜筒内二次电子探测器，使用过程中无需加偏压；

3.3 样品室内可伸缩背散射电子探测器；

3.4 样品室内红外CCD 相机观察系统，与SEM 软件集成一体，SEM 拍摄时可以同时 CCD 监控样品台情况；

3.5 主机同品牌CL探测器。

4. Oxford 能谱仪：

送样检测注意事项：

样品必须干燥、无挥发性、无毒无污染、无磁性、无放射性、耐电子束轰击。

①粉末要求在10 mg左右；液体需烘干后寄样；块体/薄膜要求长、宽、高均低于1 cm。测试前请标明测试面，如需测截面，请提前制好截面。

②镀金：对于绝缘体或导电性差的材料需进行喷金处理，否则影响拍摄效果。

预约说明：

1、需提前预约使用。